사업영역
반도체
- FOUP Cleaner
- POD Cleaner
- Wet Station
- Chemical Delivery
Supply System - Metal Lift Off
- Cassette
& Magazine Cleaner
Metal Lift Off
LED공정중 Sapphire Wafer상에 있는 Metal Layer와 Photo-Resist를
Spin Chamber에서 물리/화학적 힘을 이용하여 제거하는 장비
Feature
- Index Robot과 Transfer Robot에 의한 Wafer 자동 반송
- Metal 오염 최소화 실현
- Wafer의 Metal 회수 기능 채용
- Energy 절감 Mode 실현
- 장비의 Compact화(Footprint 절감)
Application
- LED 공정, 100mm(4"), 200mm(8")
